半导体制造的IEEE交易
国际简称:IEEE T SEMICONDUCT M
按杂志级别划分: 中科院1区 中科院2区 中科院3区 中科院4区
Ieee Transactions On Semiconductor Manufacturing是由Institute of Electrical and Electronics Engineers Inc.出版商主办的工程技术领域的专业学术期刊,自1988年创刊以来,一直以高质量的内容赢得业界的尊重。该期刊拥有正式的刊号(ISSN:0894-6507,E-ISSN:1558-2345),出版周期Quarterly,其出版地区设在UNITED STATES。该期刊的核心使命旨在推动工程技术专业及PHYSICS, APPLIED学科界的教育研究与实践经验的交流,发表同行有创见的学术论文,提倡学术争鸣,激发学术创新,开展国际间学术交流,为工程技术领域的发展注入活力。
该期刊文章自引率0.1111...,开源内容占比0.106,出版撤稿占比0,OA被引用占比0,读者群体主要包括工程技术的专业人员,研究生、本科生以及工程技术领域爱好者,这些读者群体来自全球各地,具有广泛的学术背景和兴趣。Ieee Transactions On Semiconductor Manufacturing已被国际权威学术数据库“ SCIE(Science Citation Index Expanded) ”收录,方便全球范围内的学者和研究人员检索和引用,有助于推动PHYSICS, APPLIED领域的研究进展和创新发展。
学科类别 | 分区 | 排名 | 百分位 |
大类:Engineering 小类:Industrial and Manufacturing Engineering | Q2 | 114 / 384 |
70% |
大类:Engineering 小类:Condensed Matter Physics | Q2 | 131 / 434 |
69% |
大类:Engineering 小类:Electronic, Optical and Magnetic Materials | Q2 | 89 / 284 |
68% |
大类:Engineering 小类:Electrical and Electronic Engineering | Q2 | 250 / 797 |
68% |
CiteScore: 这一创新指标力求提供更为全面且精确的期刊评估,打破了过去仅依赖单一指标如影响因子的局限。它通过综合广泛的引用数据,跨越多个学科领域,从而确保了更高的透明度和开放性。作为Scopus中一系列期刊指标的重要组成部分,包括SNIP(源文档标准化影响)、SJR(SCImago杂志排名)、引用文档计数以及引用百分比。Scopus整合以上指标,帮助研究者深入了解超过22,220种论著的引用情况。您可在Scopus Joumal Metrics website了解各个指标的详细信息。
大类学科 | 分区 | 小类学科 | 分区 | Top期刊 | 综述期刊 |
工程技术 | 3区 | PHYSICS, APPLIED 物理:应用 PHYSICS, CONDENSED MATTER 物理:凝聚态物理 ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程:电子与电气 ENGINEERING, MANUFACTURING 工程:制造 | 3区 3区 4区 4区 | 否 | 否 |
大类学科 | 分区 | 小类学科 | 分区 | Top期刊 | 综述期刊 |
工程技术 | 4区 | PHYSICS, CONDENSED MATTER 物理:凝聚态物理 ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程:电子与电气 ENGINEERING, MANUFACTURING 工程:制造 PHYSICS, APPLIED 物理:应用 | 3区 4区 4区 4区 | 否 | 否 |
大类学科 | 分区 | 小类学科 | 分区 | Top期刊 | 综述期刊 |
工程技术 | 3区 | PHYSICS, CONDENSED MATTER 物理:凝聚态物理 ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程:电子与电气 ENGINEERING, MANUFACTURING 工程:制造 PHYSICS, APPLIED 物理:应用 | 3区 4区 4区 4区 | 否 | 否 |
大类学科 | 分区 | 小类学科 | 分区 | Top期刊 | 综述期刊 |
工程技术 | 4区 | ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程:电子与电气 ENGINEERING, MANUFACTURING 工程:制造 PHYSICS, APPLIED 物理:应用 PHYSICS, CONDENSED MATTER 物理:凝聚态物理 | 4区 4区 4区 4区 | 否 | 否 |
大类学科 | 分区 | 小类学科 | 分区 | Top期刊 | 综述期刊 |
工程技术 | 3区 | PHYSICS, CONDENSED MATTER 物理:凝聚态物理 ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程:电子与电气 ENGINEERING, MANUFACTURING 工程:制造 PHYSICS, APPLIED 物理:应用 | 3区 4区 4区 4区 | 否 | 否 |
大类学科 | 分区 | 小类学科 | 分区 | Top期刊 | 综述期刊 |
工程技术 | 3区 | ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程:电子与电气 PHYSICS, APPLIED 物理:应用 PHYSICS, CONDENSED MATTER 物理:凝聚态物理 ENGINEERING, MANUFACTURING 工程:制造 | 3区 3区 3区 4区 | 否 | 否 |
按JIF指标学科分区 | 收录子集 | 分区 | 排名 | 百分位 |
学科:ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC | SCIE | Q2 | 175 / 352 |
50.4% |
学科:ENGINEERING, MANUFACTURING | SCIE | Q3 | 41 / 68 |
40.4% |
学科:PHYSICS, APPLIED | SCIE | Q3 | 100 / 179 |
44.4% |
学科:PHYSICS, CONDENSED MATTER | SCIE | Q3 | 45 / 79 |
43.7% |
按JCI指标学科分区 | 收录子集 | 分区 | 排名 | 百分位 |
学科:ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC | SCIE | Q3 | 183 / 354 |
48.45% |
学科:ENGINEERING, MANUFACTURING | SCIE | Q3 | 35 / 68 |
49.26% |
学科:PHYSICS, APPLIED | SCIE | Q3 | 92 / 179 |
48.88% |
学科:PHYSICS, CONDENSED MATTER | SCIE | Q2 | 33 / 79 |
58.86% |
JCR(Journal Citation Reports)分区,也被称为JCR期刊分区,是由汤森路透公司(现在属于科睿唯安公司)制定的一种国际通用和公认的期刊分区标准。JCR分区基于SCI数据库,按照期刊的影响因子进行排序,按照类似等分的方式将期刊划分为四个区:Q1、Q2、Q3和Q4。需要注意的是,JCR分区的标准与中科院JCR期刊分区(又称分区表、分区数据)存在不同之处。例如,两者的分区数量不同,JCR分为四个区,而中科院分区则分为176个学科,每个学科又按照影响因子高低分为四个区。此外,两者的影响因子取值范围也存在差异。
年份 | 年发文量 |
2014 | 60 |
2015 | 68 |
2016 | 51 |
2017 | 70 |
2018 | 63 |
2019 | 80 |
2020 | 77 |
2021 | 63 |
2022 | 77 |
2023 | 74 |
被他刊引用情况 | |
期刊名称 | 引用次数 |
IEEE T SEMICONDUCT M | 182 |
IEEE T AUTOM SCI ENG | 79 |
IEEE ACCESS | 48 |
ECS J SOLID STATE SC | 33 |
COMPUT IND ENG | 24 |
INT J PROD RES | 20 |
J MANUF SYST | 17 |
COMPUT IND | 16 |
IEEE T ELECTRON DEV | 16 |
INT J ADV MANUF TECH | 16 |
引用他刊情况 | |
期刊名称 | 引用次数 |
IEEE T SEMICONDUCT M | 182 |
INT J PROD RES | 33 |
EXPERT SYST APPL | 30 |
IEEE T AUTOM SCI ENG | 25 |
J APPL PHYS | 19 |
JPN J APPL PHYS | 18 |
APPL PHYS LETT | 17 |
J ELECTROCHEM SOC | 16 |
J MACH LEARN RES | 16 |
CHEMOMETR INTELL LAB | 15 |