Plasma Chemistry And Plasma Processing

Plasma Chemistry And Plasma Processing杂志简介

Plasma Chemistry And Plasma Processing是由Springer US出版商主办的物理与天体物理领域的专业学术期刊，自1981年创刊以来，一直以高质量的内容赢得业界的尊重。该期刊拥有正式的刊号（ISSN：0272-4324，E-ISSN：1572-8986），出版周期Quarterly，其出版地区设在UNITED STATES。该期刊的核心使命旨在推动物理与天体物理专业及ENGINEERING, CHEMICAL学科界的教育研究与实践经验的交流，发表同行有创见的学术论文，提倡学术争鸣，激发学术创新，开展国际间学术交流，为物理与天体物理领域的发展注入活力。

该期刊文章自引率0.0833...，开源内容占比0.0935，出版撤稿占比0，OA被引用占比0.0820...，读者群体主要包括物理与天体物理的专业人员，研究生、本科生以及物理与天体物理领域爱好者，这些读者群体来自全球各地，具有广泛的学术背景和兴趣。Plasma Chemistry And Plasma Processing已被国际权威学术数据库“ SCIE（Science Citation Index Expanded） ”收录，方便全球范围内的学者和研究人员检索和引用，有助于推动ENGINEERING, CHEMICAL领域的研究进展和创新发展。