技术物理
国际简称:TECH PHYS+
Technical Physics是由Pleiades Publishing出版商主办的物理与天体物理领域的专业学术期刊,自1997年创刊以来,一直以高质量的内容赢得业界的尊重。该期刊拥有正式的刊号(ISSN:1063-7842,E-ISSN:1090-6525),出版周期Monthly,其出版地区设在RUSSIA。该期刊的核心使命旨在推动物理与天体物理专业及PHYSICS, APPLIED学科界的教育研究与实践经验的交流,发表同行有创见的学术论文,提倡学术争鸣,激发学术创新,开展国际间学术交流,为物理与天体物理领域的发展注入活力。
该期刊文章自引率0.1428...,开源内容占比0,出版撤稿占比0,OA被引用占比0,读者群体主要包括物理与天体物理的专业人员,研究生、本科生以及物理与天体物理领域爱好者,这些读者群体来自全球各地,具有广泛的学术背景和兴趣。Technical Physics已被国际权威学术数据库“ SCIE(Science Citation Index Expanded) ”收录,方便全球范围内的学者和研究人员检索和引用,有助于推动PHYSICS, APPLIED领域的研究进展和创新发展。
学科类别 | 分区 | 排名 | 百分位 |
大类:Physics and Astronomy 小类:Physics and Astronomy (miscellaneous) | Q3 | 56 / 81 |
31% |
CiteScore: 这一创新指标力求提供更为全面且精确的期刊评估,打破了过去仅依赖单一指标如影响因子的局限。它通过综合广泛的引用数据,跨越多个学科领域,从而确保了更高的透明度和开放性。作为Scopus中一系列期刊指标的重要组成部分,包括SNIP(源文档标准化影响)、SJR(SCImago杂志排名)、引用文档计数以及引用百分比。Scopus整合以上指标,帮助研究者深入了解超过22,220种论著的引用情况。您可在Scopus Joumal Metrics website了解各个指标的详细信息。
大类学科 | 分区 | 小类学科 | 分区 | Top期刊 | 综述期刊 |
物理与天体物理 | 4区 | PHYSICS, APPLIED 物理:应用 | 4区 | 否 | 否 |
大类学科 | 分区 | 小类学科 | 分区 | Top期刊 | 综述期刊 |
物理与天体物理 | 4区 | PHYSICS, APPLIED 物理:应用 | 4区 | 否 | 否 |
大类学科 | 分区 | 小类学科 | 分区 | Top期刊 | 综述期刊 |
物理与天体物理 | 4区 | PHYSICS, APPLIED 物理:应用 | 4区 | 否 | 否 |
大类学科 | 分区 | 小类学科 | 分区 | Top期刊 | 综述期刊 |
物理 | 4区 | PHYSICS, APPLIED 物理:应用 | 4区 | 否 | 否 |
大类学科 | 分区 | 小类学科 | 分区 | Top期刊 | 综述期刊 |
物理与天体物理 | 4区 | PHYSICS, APPLIED 物理:应用 | 4区 | 否 | 否 |
大类学科 | 分区 | 小类学科 | 分区 | Top期刊 | 综述期刊 |
物理与天体物理 | 4区 | PHYSICS, APPLIED 物理:应用 | 4区 | 否 | 否 |
按JIF指标学科分区 | 收录子集 | 分区 | 排名 | 百分位 |
学科:PHYSICS, APPLIED | SCIE | Q4 | 152 / 179 |
15.4% |
按JCI指标学科分区 | 收录子集 | 分区 | 排名 | 百分位 |
学科:PHYSICS, APPLIED | SCIE | Q4 | 170 / 179 |
5.31% |
JCR(Journal Citation Reports)分区,也被称为JCR期刊分区,是由汤森路透公司(现在属于科睿唯安公司)制定的一种国际通用和公认的期刊分区标准。JCR分区基于SCI数据库,按照期刊的影响因子进行排序,按照类似等分的方式将期刊划分为四个区:Q1、Q2、Q3和Q4。需要注意的是,JCR分区的标准与中科院JCR期刊分区(又称分区表、分区数据)存在不同之处。例如,两者的分区数量不同,JCR分为四个区,而中科院分区则分为176个学科,每个学科又按照影响因子高低分为四个区。此外,两者的影响因子取值范围也存在差异。
年份 | 年发文量 |
2014 | 322 |
2015 | 327 |
2016 | 315 |
2017 | 322 |
2018 | 303 |
2019 | 307 |
2020 | 308 |
2021 | 79 |
2022 | 168 |
2023 | 206 |
被他刊引用情况 | |
期刊名称 | 引用次数 |
TECH PHYS+ | 339 |
TECH PHYS LETT+ | 115 |
PLASMA PHYS REP+ | 75 |
PHYS PLASMAS | 68 |
IEEE T PLASMA SCI | 66 |
PHYS SOLID STATE+ | 66 |
RUSS PHYS J+ | 55 |
SEMICONDUCTORS+ | 55 |
PLASMA SOURCES SCI T | 50 |
PHYS-USP+ | 39 |
引用他刊情况 | |
期刊名称 | 引用次数 |
TECH PHYS+ | 339 |
J APPL PHYS | 165 |
TECH PHYS LETT+ | 152 |
PHYS SOLID STATE+ | 113 |
APPL PHYS LETT | 106 |
PHYS REV B | 82 |
PHYS REV LETT | 73 |
PHYS-USP+ | 63 |
J PHYS D APPL PHYS | 54 |
J EXP THEOR PHYS+ | 51 |
辐射探测技术与方法
中科院分区:4区
激光与光电子学进展
中科院分区:4区
Chinese Journal Of Lasers-zhongguo Jiguang
中科院分区:4区
天体动力学
中科院分区:1区
中国科学:物理学 力学 天文学
中科院分区:4区